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●全民抗"疫" 終獲勝利 ●

潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近些年隨著高新技術(shù)發(fā)展起來的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜志控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的檢測技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機(jī)械、化工、食品、汽車制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

隨著我國科技水平的提高，人民生活水平也大大提升。人們對生活質(zhì)量及生活環(huán)境抱有越來越高的要求，如：空調(diào)凈化系統(tǒng)設(shè)備、水凈化設(shè)備、空氣凈化器等凈化工程技術(shù)已經(jīng)開始步入千家萬戶，進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。特別在電子行業(yè)發(fā)展中更能體現(xiàn)出科技水平的提升速度，電子逐漸微型化，質(zhì)量化，完美化給我們帶來了快捷，方便，耐用的時代。凈化工程技術(shù)在某種意義上已經(jīng)成為衡量國家和工業(yè)的一個重要標(biāo)志。

01、發(fā)展

在過去我國的潔凈技術(shù)和設(shè)備與國外先進(jìn)國家相比差距是明顯的，我國1965年才開始生產(chǎn)的HEPA過濾器，比國外了十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在國際上先進(jìn)國家已成為成熟技術(shù)，我國則剛剛起步。

在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國與先進(jìn)國家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71.8萬平方米，而我國目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計已達(dá)188.5萬平方米。

在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國外已大量建成0.1微米級的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場建成十級潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個1000平方米控制0.1微米塵埃的千級廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次/分。美國在臺灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。

我國使用的0.1微米十級潔凈室主要依賴從國外進(jìn)口。由于高潔凈級別的潔凈室造價十分昂貴，0.1微米十級潔凈室每平方米造價高達(dá)1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國ASYST公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項最新的潔凈技術(shù)在100級潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到高級別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運行的二次污染源產(chǎn)生對集成電路成品率和可靠性的影響作用。

據(jù)中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會統(tǒng)計，我國主要八家最大的凈化設(shè)備廠的銷售額1990年為8217萬元，還不足1億，1993年達(dá)到14495萬元，占國際市場銷售額的0.34％。但隨著我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場，以每年40％~50％的增長速度在增加。因此在未來，潔凈市場的蛋糕是巨大的。

02、趨勢

競爭方向轉(zhuǎn)變

由價格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r值競爭。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢，對元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和高性能要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價格競爭轉(zhuǎn)向技術(shù)競爭，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主創(chuàng)新能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計和建造符合要求的高端的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場競爭的焦點。

節(jié)能化成為潔凈工程重要目標(biāo)

潔凈廠房是我國的耗能大戶之一，據(jù)不完全統(tǒng)計，潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國的8英寸芯片廠，潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2，而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2（資料來源：中國電子學(xué)會潔凈分會）。以上海某知名芯片廠為例，其全年耗電量51%是用于潔凈工程運行及相關(guān)的維護(hù)，如果將51%的能耗合理降低，對企業(yè)來說就意味著利潤的增長。因此，潔凈室下游相關(guān)行業(yè)企業(yè)越來越重視潔凈室的節(jié)能問題。這就要求潔凈工程行業(yè)的設(shè)計和施工企業(yè)，從客戶需求出發(fā)，從設(shè)計理念、建造施工、設(shè)備配備及運行等各個方面進(jìn)行節(jié)能設(shè)計，只有采取全方位的節(jié)能技術(shù)，整個潔凈工程行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。

高端潔凈技術(shù)方向發(fā)展

空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關(guān)心的問題于20年前最先由日本人提出，近年來，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個數(shù)，但對AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學(xué)品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計與施工建設(shè)的主流趨勢。目前，國內(nèi)的潔凈工程企業(yè)中已經(jīng)開始從事此方向的研究，在該領(lǐng)域比較領(lǐng)先的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列，而中國電子工程設(shè)計院則在防微震方面技術(shù)領(lǐng)先。

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